MultiPrepTM 系統適用于高精微（光鏡，SEM，TEM，AFM，etc）樣品的半自動準備加工。主要性能包括平行拋光，精確角拋光，定址拋光或幾種方式結合拋光。它保證良好的重現性，可以解決多用戶使用的矛盾。 MultiPrep 無須手持樣品，保證只有樣品面與研磨劑接觸。

TechPrepTM 為MultiPrepTM 的定位裝置提供電源。人性化的控制面板設計控制MultiPrepTM 所有功能。研磨盤轉速範圍（順/逆時針）為5到350PRM。除觸摸開關控制所有功能外，還有數位觸摸鍵盤用於設置研磨盤速度、計時器、擺動與旋轉設置。此系統用水符合冷卻標準；自動滴液給料系統適用研磨懸浮液和潤滑劑。

特色：

•測微計控製樣品的設置
•精確軸設計保證樣品垂直於研磨盤，使之同時旋轉。
•數字千分錶顯示樣品行程，增量1微米（實時）
•雙軸測微計控製樣品角坐標設置（斜度和擺度），10°幅度， 0.02°增量。
• 6倍速樣品自動擺動。
• 8倍速樣品自動旋轉。
•樣品調整範圍：0-600克（100克增量）
•數字計時器與轉速計
•凸輪鎖緊鉗無需其他輔助工具，方便用戶重新設置工作夾具。
•符合CE標準