[ 金相顯微鏡前處理設備 | 研磨/拋光 ]
美國 Allied High Tec生產之高精密 研磨拋光機設備，可用於金相製備，SEM、TEM樣品製備。並搭配Allied其自有品牌的耗材、完整的材質製備技術參數資料，可達事半功倍效果。Allied在加州並設有先進實驗室，接受全球各地委託，從事各類樣品、不同的材料如Si、LiNbO3、SrTiO3、TiO2、InP、GaAs、SiC、Sapphire的製備標準化之程序研究開發，提供完整的參數資訊、研磨拋光技術及系統改善，可達到最高標準、最小誤差、完全無刮痕的鏡面需求。

其全系列產品，在半導體、封裝測試、航太、光電、面板FPD、印刷電路板PCB、學術界、研究單位等，都有產品之銷售記錄。若有相關產品及技術問題，歡迎來電指教 ！
單盤研磨拋光機
品牌： ALLIED
型號： 5-2100
品名： M-Prep 3™ & M-Prep 4™
特色：

-高精密旋轉平面度研磨盤面
-適合SEM、TEM高精度樣品製備
- 轉速手調控制
- 轉速25-500RPM
　 - 按鈕式控制給水
　 - 10", 12"研磨盤徑可選
* Electronic coolant control
* Quick-change platen design
* Variable platen speed:25-500 RPM
* Bowl flush prevents buildup of debris
* Available in 8",10" and 12" platen configurations

   
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雙盤研磨拋光機
品牌： ALLIED
型號： 5-7508 & 5-7510
品名： TwinPrep 3™8" & TwinPrep 3 ™10"
特色：

-高精密旋轉平面度研磨盤面
-適合SEM、TEM高精度樣品製備
- 轉速手調控制
- 轉速25-500RPM
　 - 按鈕式控制給水
　 - 8 ", 10"研磨盤徑可選
* Electronic coolant control
* Quick-change platen design
* Variable platen speed:25-500 RPM
* Bowl flush prevents buildup of debris
* Available in 8",10" and 12" platen configurations

   
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定址研磨拋光機
品牌： ALLIED
型號： 15-2000
品名： MultiPrep™ system
特色： - 數位顯示器可指示樣品位置與研磨厚度,1u
- 可預設研磨拋光厚度，作精密定址研磨使用。
- 轉速5-350 RPM,6段可調研磨治具固定臂擺盪角度
- 高精密度鋁盤, 最高可達2u旋轉平整度
- 數位計時控制
- 下壓力可調控制,0-600g -可搭配精密研磨拋光治具使用，構成自動精密研磨拋光機
- 多種治具配件選擇,可製作多種試片
- Cross-section, TEM WEDGE, Backside Polishing,Parallel Delayering, Pre-FIB Thinning
* Digital Timer and Tachometer
* Adjustable sample load from 0-600 grams
* Automatic sample rotation with 8 speeds
* Automatic sample oscillation with 6 speeds
* Micrometer controlled positioning of the sample
   
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update： 2008-12-28